Atomic Layer Deposition for Semiconductors - Cheol Seong Hwang - Grāmatas - Springer-Verlag New York Inc. - 9781489979438 - 2016. gada 23. augusts
Ja vāks un nosaukums nesakrīt, pareizs ir nosaukums

Cheol Seong Hwang
Atomic Layer Deposition for Semiconductors Softcover reprint of the original 1st ed. 2014 edition

Cena
€ 172,99

Pasūtīts no attālās noliktavas

Paredzamā piegāde . gada 30. sept. - . gada 8. okt.
Saņemiet paziņojumus par jauniem Cheol Seong Hwang izdevumiem

Mūsu klienti saka:

14 dienu atgriešanas politika saskaņā ar Eiropas patērētāju tiesību aizsardzības likumu
Top vieta Trustpilot
Pievienot savam iMusic vēlmju sarakstam

Not rated yet

Pieejams arī kā:

This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines. The section on ALD for logic devices covers both front-end of the line processes and back-end of the line processes.

273 pages, 89 black & white illustrations, 81 colour illustrations, 3 black & white tables, 1 colour

Mediji Grāmatas     Paperback Book   (Grāmata ar mīksto vāku un līmēto muguru)
Izlaists 2016. gada 23. augusts
ISBN13 9781489979438
Izdevēji Springer-Verlag New York Inc.
Lapas 263
Izmēri 234 × 155 × 18 mm   ·   482 g
Valoda Angļu  
Redaktors Hwang, Cheol Seong

Vairāk no tā paša izdevēja

Skatīt visus Cheol Seong Hwang