The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses - Zhiqiang Li - Grāmatas - Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm - 9783662570265 - 2018. gada 7. jūnijs
Ja vāks un nosaukums nesakrīt, pareizs ir nosaukums

The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses Softcover reprint of the original 1st ed. 2016 edition

Cena
€ 53,99

Pasūtīts no attālās noliktavas

Paredzamā piegāde . gada 17. - 25. sept.
Saņemiet paziņojumus par jauniem Zhiqiang Li izdevumiem
Pievienot savam iMusic vēlmju sarakstam

Not rated yet

Pieejams arī kā:

59 pages, 49 Illustrations, color; 3 Illustrations, black and white; XIV, 59 p. 52 illus., 49 illus.

Mediji Grāmatas     Paperback Book   (Grāmata ar mīksto vāku un līmēto muguru)
Izlaists 2018. gada 7. jūnijs
ISBN13 9783662570265
Izdevēji Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm
Lapas 59
Izmēri 150 × 220 × 10 mm   ·   151 g
Valoda Vācu  

Vairāk no Zhiqiang Li

Rādīt visu

Vairāk no tā paša izdevēja