Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films - Progress in Numerical Simulation for Microelectronics - Chris R. Kleijn - Grāmatas - Springer Basel - 9783034877435 - 2013. gada 20. novembris
Ja vāks un nosaukums nesakrīt, pareizs ir nosaukums

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films - Progress in Numerical Simulation for Microelectronics Softcover reprint of the original 1st ed. 1993 edition

Cena
€ 46,99

Pasūtīts no attālās noliktavas

Paredzamā piegāde . gada 26. okt. - . gada 9. nov.
Saņemiet paziņojumus par jauniem Chris R. Kleijn izdevumiem
Pievienot savam iMusic vēlmju sarakstam

Not rated yet

Semiconductor equipment modeling has in recent years become a field of great interest, because it offers the potential to support development and optimization of manufacturing equipment and hence reduce the cost and improve the quality of the reactors.


140 pages, black & white illustrations

Mediji Grāmatas     Paperback Book   (Grāmata ar mīksto vāku un līmēto muguru)
Izlaists 2013. gada 20. novembris
ISBN13 9783034877435
Izdevēji Springer Basel
Lapas 139
Izmēri 152 × 229 × 7 mm   ·   195 g
Valoda Vācu  

Vairāk no tā paša izdevēja