Pastāsti draugiem par šo preci:
Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes - Emerging Materials and Technologies Oluwatobi Adeleke
Cena
€ 79,49
Pasūtīts no attālās noliktavas
Paredzamā piegāde . gada 29. maijā - . gada 12. jūn.
Mūsu klienti saka:
Pievienot savam iMusic vēlmju sarakstam
Pieejams arī kā:
Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes - Emerging Materials and Technologies
Oluwatobi Adeleke
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
| Mediji | Grāmatas Paperback Book (Grāmata ar mīksto vāku un līmēto muguru) |
| Izlaists | 2025. gada 5. maijs |
| ISBN13 | 9781032386737 |
| Izdevēji | Taylor & Francis Ltd |
| Lapas | 354 |
| Izmēri | 150 × 220 × 10 mm · 740 g |
| Valoda | Angļu |
