Fakhrozi Che Ani

Badanie DPM w ro?nie domieszkowanych nanocz?stkach lutu SAC305 bez Pb Fakhrozi Che Ani

Wl?czenie nanocz?stek do lutu bezolowiowego, trajektoria nanocz?stek podczas procesu lutowania musi byc monitorowana, poniewa? b?dzie miala wplyw na tworzenie si? wysoko?ci spoiny, warstwy zwi?zków mi?dzymetalicznych (IMC) i tworzenie si? mikro pustek. Dwukierunkowe interakcje wykorzystuj?ce zarówno metod? obj?to?ci plynu (VOF) jak i metod? fazy dyskretnej (DPM) zostaly wprowadzone w obecnym badaniu, aby uwzgl?dnic interakcj? pomi?dzy nanocz?stkami i stopionym lutem. Nanocz?stki wzmocnione, które s? wprowadzane do lutu SAC305 to nanocz?stki tlenku tytanu (TiO2), tlenku niklu (NiO) i tlenku ?elaza (III) (Fe2O3) o przybli?onej ?rednicy ?20nm w ró?nych procentach wagowych 0,01, 0,05 i 0,15 % mas.% do zastosowania w ultra drobnym kondensatorze typu 01005. Zarówno badania eksperymentalne jak i symulacyjne zostaly przeprowadzone w celu porównania wa?no?ci nowej symulacji opartej na DPM. Wyniki uzyskane z eksperymentu mog? skutecznie zobrazowac rozklad nanocz?stek na ko?cu procesu rozplywowego. Symulacja DPM z drugiej strony jest w stanie pokazac szczególow? trajektori? nanocz?stek w trakcie procesu rozplywu termicznego SAC305.