Jesús Javier Ortega Cabrera

Teoretyczna ocena wspolczynnika odbicia w cienkich warstwach AL/SiO2 Jesús Javier Ortega Cabrera

Poprawa wla?ciwo?ci optycznych materialu, takich jak reflektancja, wi??e si? ze zlo?onym poszukiwaniem optymalnych parametrów eksperymentalnych w procesie ich otrzymywania. Wykorzystanie oprogramowania obliczeniowego do symulacji procesów wzrostu cienkich warstw stanowi istotn? korzy?c ze wzgl?du na brak zale?no?ci od rzeczywistego systemu, jak równie? mo?liwo?c zbadania szerszego zakresu wyst?puj?cych wielko?ci fizycznych. Ponadto, istnieje potrzeba w przemy?le motoryzacyjnym, Varroc Lighting Systems(c) otrzymal zadanie poprawy wspólczynnika odbicia reflektorów aluminiowych, wi?c przeprowadzili?my rozwój, przy u?yciu oprogramowania NASCAM(R), które wykorzystuje metod? kinetyczn? Monte Carlo do opracowania modelu ukladu fizycznego, który ma byc badany w skali nanometrycznej, pozwoli nam to na analiz? wplywu ró?nych wielko?ci, które mog? wplywac na wspólczynnik odbicia materialu.