Pastāsti draugiem par šo preci:
CMOS Plasma and Process Damage Kirk Prall
Do you have a profile? Pierakstīties
Saņemiet paziņojumus par jauniem Kirk Prall izdevumiem
Pievienot savam iMusic vēlmju sarakstam
CMOS Plasma and Process Damage
Kirk Prall
Readers will learn how plasma and process damage results from the high-energy processes that are used in chip manufacturing, causing harm to the chips, functional failure and reliability problems.
| Mediji | Grāmatas Hardcover Book (Grāmata ar cieto muguriņu un vāku) |
| Izlaists | 2025. gada 17. maijs |
| ISBN13 | 9783031890284 |
| Izdevēji | Springer International Publishing AG |
| Lapas | 466 |
| Izmēri | 150 × 220 × 20 mm · 891 g |
| Valoda | Vācu |