Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective - Press Monographs - Andreas Erdmann - Grāmatas - SPIE Press - 9781510639010 - 2021. gada 30. aprīlis
Ja vāks un nosaukums nesakrīt, pareizs ir nosaukums

Andreas Erdmann
Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective - Press Monographs

Saņemt e-pastu, kad prece būs pieejama
Do you have a profile? Pierakstīties
Saņemiet paziņojumus par jauniem Andreas Erdmann izdevumiem

Mūsu klienti saka:

14 dienu atgriešanas politika saskaņā ar Eiropas patērētāju tiesību aizsardzības likumu
Top vieta Trustpilot
Pievienot savam iMusic vēlmju sarakstam

Not rated yet

Introduces interested students with backgrounds in physics, optics, computational engineering, mathematics, chemistry, material science, nanotechnology, and other areas to the fascinating field of lithographic techniques for nanofabrication. It should also help senior engineers and managers expand their knowledge of alternative methods and applications.

374 pages

Mediji Grāmatas     Paperback Book   (Grāmata ar mīksto vāku un līmēto muguru)
Izlaists 2021. gada 30. aprīlis
ISBN13 9781510639010
Izdevēji SPIE Press
Lapas 374
Izmēri 255 × 178 × 24 mm   ·   682 g

Vairāk no Andreas Erdmann

Rādīt visu

Vairāk no tā paša izdevēja

Skatīt visus Andreas Erdmann ( piem., Paperback Book )