Pastāsti draugiem par šo preci:
Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications Tommi Kaariainen 2. izdevums
Cena
€ 216,99
Pasūtīts no attālās noliktavas
Paredzamā piegāde . gada 30. okt. - . gada 13. nov.
Ziemassvētku dāvanas var atgriezt līdz 31. janvārim
Saņemiet paziņojumus par jauniem Tommi Kaariainen izdevumiem
Mūsu klienti saka:
Pievienot savam iMusic vēlmju sarakstam
Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Tommi Kaariainen
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective.
272 pages
| Mediji | Grāmatas Hardcover Book (Grāmata ar cieto muguriņu un vāku) |
| Izlaists | 2013. gada 28. maijs |
| ISBN13 | 9781118062777 |
| Izdevēji | John Wiley & Sons Inc |
| Lapas | 272 |
| Izmēri | 240 × 164 × 25 mm · 582 g |
| Valoda | Angļu |
