Plasma Etching: Fundamentals and Applications - Series on Semiconductor Science and Technology - Sugawara, M. (Professor, Professor, Hachinohe Institute of Technology, Japan) - Grāmatas - Oxford University Press - 9780198562870 - 1998. gada 28. maijs
Ja vāks un nosaukums nesakrīt, pareizs ir nosaukums

Plasma Etching: Fundamentals and Applications - Series on Semiconductor Science and Technology

Cena
€ 303,99

Pasūtīts no attālās noliktavas

Paredzamā piegāde . gada 19. nov. - . gada 3. dec.
Ziemassvētku dāvanas var atgriezt līdz 31. janvārim
Saņemiet paziņojumus par jauniem Sugawara, M. (Professor, Professor, Hachinohe Institute of Technology, Japan) izdevumiem
Pievienot savam iMusic vēlmju sarakstam

Not rated yet

The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.


356 pages, 2 colour plates, 5 halftones, numerous line figures

Mediji Grāmatas     Hardcover Book   (Grāmata ar cieto muguriņu un vāku)
Izlaists 1998. gada 28. maijs
ISBN13 9780198562870
Izdevēji Oxford University Press
Lapas 356
Izmēri 163 × 242 × 23 mm   ·   743 g
Valoda Angļu  

Vairāk no tā paša izdevēja